Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Strain-driven diffusion process during silicon oxidation investigated by coupling density functional theory and activation relaxation technique
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BSO - Titre
Strain-driven diffusion process during silicon oxidation investigated by coupling density functional theory and activation relaxation technique
XX
DOI
DOI
10.1063/1.4996206
XX
DOAI
DOAI
10.1063/1.4996206
XX
Identifiant WoS
WOS:000407292200017
XX
Accès ouvert
OA - Oui
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Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Archive
XX
Editeur
AIP Publishing
XX
Source
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS
XX
ISSN
0021-9606
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
3 - Correcte
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INS2I - Institut des sciences de l'information et de leurs interactions
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/4JD4W5KH
12/10/2021 14:52:49 (latest)
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